1 試験片

Al箔(10μm厚) ，Al箔(10μm厚 ) ，Al箔(20μm厚 )
2 使用機器 HSW-03 スポット溶接機
3 使用電極 HSW-EB1（棒状電極）　，PSW-R2(ローラ電極）
4 機器設定

Al(1N30)10μmは、シーム電極で９V,130μSで一番良好でしたが、穿孔部分もありました。電極を最適化することで避けられる可能性があります。
８０２１　10μm は、シーム電極で、９V　130μS　で一番良でしたが、110μS ではまったく溶接されませんでした。（この辺の調整がHSW-02Aでは困難でした。）
８０２１　20μmは、シーム電極で、９V　200μS　で良好でした。必要ならパルス幅をもう少し上げる余地はあります。

5 溶接状況

電極：（＋赤）棒状電極→Al箔→Al箔→ローラー電極（－青）の順

6 写真
テスト実施年月日：平成21年9月7日(月)