1 試験片

(1) Al集電体15μm + Alタブ 100μm   (2) Cu集電体 15μm + Cuタブ 100μm

2 使用機器 HSW-03
3 使用電極 HSW-FB2(平板電極)、 PSW-P1(溶接スティック)
4 機器設定 電圧 15.0V パルス幅 1mS
5 溶接状況 上記の弊社溶接機および電極を用いて溶接いたしました。《結果》良好
6 写真

 
 

テスト実施年月:2019年 12月 2日

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